高精度激光陀螺腔体化学抛光方法

发布时间:2018-09-10 16:22:50 点击数:5
基本信息
申请号 200510001541.7 IPC分类 B24B
发明人 王宇 滕霖 白满社 陈勇 袁海 李大琦 申请日 2005-10-17
发明名称 高精度激光陀螺腔体化学抛光方法 法律状态 终止
授权公告日 2009-09-09 解密公告日
申请人 中国航空工业第六一八研究所     申请人地址 西安市电子一路92号
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